媒体日前从中科院光电技术研究所得知，该所微电子专用设备研发团队已自律研制出一种新型紫外纳米压印光刻机，其成本仅有为国外同类设备1/3，将有力前进我国芯片加工等微纳级结构器件生产水平迈上新的台阶。 光刻机是微纳图形加工的专用高端设备。光电所微电子装备总体研究室主任胡松讲解，这套设备使用新型纳米对准技术，将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提高至纳米量级。 “对准是光刻设备三大核心指标之一，是构建功能化器件加工的关键。
”胡松回应，在国家大自然基金的倒数资助下，光电所研究团队已完成了基于莫尔条纹的高精度对准技术自律研发，获得专利20余项。该技术在光刻机中的顺利应用于，突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题，为高精度纳米器件的加工获取了技术确保，未来可普遍应用于微纳流控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅等微纳结构器件的制取，目前该设备已完成初试和小批生产。
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